近日，国际知名学术出版机构WileyVCH出版了英文学术专著《Radio Frequency Sputtering: ThinFilm Deposition and Device Applications》。我校储能材料技术专业教师Poorva Sharma博士担任本书编辑之一，Ashwini Kumar博士、龚勇博士受邀参与编写第1章《Mechanistic Understanding of Sputtering》与第7章《Reactive Magnetron Sputtering》。

薄膜科学和技术是当今世界公认的几大前沿领域之一，其创新活动正逐渐对社会经济产生深远的影响。随着溅射薄膜技术的飞跃发展，储能、半导体行业将迎来新的发展机遇。本专著面向从事薄膜沉积、溅射工艺、功能器件领域的科研人员，包含丰富的理论论述与工艺案例研究，揭示射频溅射技术在储能薄膜、光电器件制备中的关键技术问题，能够指导研究者利用磁控溅射技术支撑薄膜材料研究，可作为材料、储能、半导体等领域的学者开展薄膜制备研究的参考指南，将在国内外产生广泛的影响。

此次参编国际权威专著，是我校教师国际学术合作取得的重要成果，体现了国际学术界对我校储能材料、功能薄膜方向科研实力的充分认可，进一步提升了学校在储能材料与薄膜器件领域的国际学术影响力。学院将持续鼓励教师积极参与国际学术交流与专著编写，不断推动学科建设、科研创新与专业教学深度融合。

专著链接：https://onlinelibrary.wiley.com/doi/book/10.1002/9783527855469